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J-GLOBAL ID:200902164363159421   整理番号:00A1038079

工業用金属シリコンを用いる太陽電池基板用高純度シリコン製造プロセスの開発

Purification of Metallurgical Grade Silicon to Solar Grade for Use in Solar Cell Wafers.
著者 (8件):
資料名:
巻: 86  号: 11  ページ: 717-724  発行年: 2000年11月01日 
JST資料番号: F0332A  ISSN: 0021-1575  CODEN: TEHAA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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工業用Siから物理化学的原理に基づいて標記の高純度Siを精製...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (2件):
分類
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精錬  ,  固体デバイス材料 
引用文献 (36件):
  • 1) P. D. Maycock : Photovoltaic News, 19 (2000) 3, 1.
  • 2) 太陽電池ハンドブック, 電気学会太陽電池調査専門委員会編, コロナ社, 東京, (1985), 25.
  • 3) Y. Sakaguchi, M. Fukai, F. Aratani, M. Ishizaki, T. Kawahara and M. Yoshiyagawa : Tetsu-to-Hagané, 77 (1991), 118.
  • 4) J. Dietl : Proc. of 8th E. C. Photovoltaic Solar Energy Conf., ed. by I.Solomon et al., Kluwer Academic Publishers, Dordrecht, (1988), 599.
  • 5) J. A. Amick, J. P. Dismukes, R. W. Francis, L. P. Hunt, P. S. Ravishankar, M. Schneider, K. Matthei, K. Larsen and A. Schei : J Electrochem. Soc., 132 (1958), 339.
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