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J-GLOBAL ID：200902164468755151   整理番号：00A0690153

アークイオンプレーティング法により作製した窒化ケイ素薄膜の特性

Mechanical Properties of Silicon Nitride Films Deposited on Stainless Steel Plate by Reactive Arc Ion Plating.

著者 (3件)： 石川宏美 (千葉県機械金属試) ,  筆谷秀一 (千葉大 大学院) ,  広橋光治 (千葉大 工)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 51  号： 7  ページ： 740-744  発行年： 2000年07月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： SUS310を基板としアークイオンプレーティング法により,高...

シソーラス用語： 真空アーク ,...
準シソーラス用語： 圧力依存性 ,...

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分類 (1件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

引用文献 (15件)：

• 岸本幸宏. 精密工学会誌. 1993, 59, 833
• 日本学術振興会プラズマ材料科学第153回委員会. プラズマ材料科学ハンドブック. 1992, 332
• LUCOVSKY, G. J. Vac. Sci. Technol. 1987, A 5, 2231
• KOMINIAK, G. J. J. Electrochem. Soc. 1975, 122, 1271
• FUKUTOMI, Masao. J. Electrochem. Soc. 1977, 124, 1420

タイトルに関連する用語 (4件)： アークイオンプレーティング法 ,  作製 ,  窒化 ,  ケイ素薄膜