シリコン表面上の高エネルギーイオン蒸着研究のための低エネルギーイオンビームシステム

文献

J-GLOBAL ID：200902165365689858 整理番号：99A0453435

A low-energy ion beam system for studying energetic ion deposition on Silicon surfaces.

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巻： 53 号： 3/4 ページ： 459-464 発行年： 1999年06月
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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