文献
J-GLOBAL ID:200902165496618670
整理番号:93A0648616
高周波マグネトロン反応性スパッタ法により製作したMoO3薄膜の性質
The properties of RF magnetron-reactive sputtered molybdenum oxide films.
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{{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=93A0648616©=1") }}
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{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=93A0648616&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0054A") }}