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J-GLOBAL ID：200902165594984960   整理番号：00A0535659

光学及び光電素子用の高分子膜のイオン化促進法による堆積

Polymeric film deposition by ionization-assisted method for optical and optoelectronic applications.

著者 (1件)： USUI H (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 365  号： 1  ページ： 22-29  発行年： 2000年04月03日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イオン化促進蒸着(IAD)による高分子薄膜の堆積について概説...

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,...

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分類 (2件)： 重合反応一般  (CG04010H) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 光学 ,  光電素子 ,  高分子膜 ,  イオン化 ,  促進 ,  堆積