文献

J-GLOBAL ID：200902165708439798   整理番号：98A0671979

フェニルカルビノールの酸-触媒脱水反応に基づく異方性酸-拡散を用いるネガ型EBレジスト材料

Negative EB Resist Materials Using Anisotropic Acid-Diffusion Based on Acid-Catalyzed Dehydration of Phenylcarbinols.

著者 (7件)： UCHINO S (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  YAMAMOTO J (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  MIGITAKA S (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  KOJIMA K (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  HASHIMOTO M (Hitachi Chemical Co., Ibaraki, JPN) ,  MURAI F (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  SHIRAISHI H (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 11  号： 4  ページ： 555-563  発行年： 1998年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1,3,5-トリス(2-(2-ヒドロキシプロピル)ベンゼン(...

シソーラス用語： *電子線レジスト ,...
準シソーラス用語： トリフラート ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (6件)： 2,2′-(2,6-ナフタレンジイル)ビス(2-プロパノール) ,  ジフェニルヨードニウム ,  2,2′,2′′-(ベンゼン-1,3,5-トリイル)トリス(2-プロパノール) ,  3,3′,3′′-(ベンゼン-1,3,5-トリイル)トリス(3-ペンタノール) ,  2,2′-(ビフェニル-4,4′-ジイル)ビス(2-プロパノール) ,  2,2′-[エチレンビス(4,1-フェニレン)]ビス(2-プロパノール)

引用文献 (13件)：

• 1).Y. Sakitani, H. Yoda, H. Todokoro, Y. Shibata,Y. Yamazaki, K. Ohbitu, N. Saito, S. Moriyama,S. Okazaki, G. Matsuoka, F. Murai, and M.Okumura, J. Vac. Sci. Technol., B10,2759(1992).
• 2).S. D. Berger, J. M. Gibson, R. M. Camarda, R. C.Farrow, H. A. Huggins, J. S. Kraus, J. Vac. Sci.Technol., B9(6), 2996(1991).
• 3). H. Ito, C. G. Willson, Poly. Eng. Sci., 23,1012(1983).
• 4). H. Y. Liu, M. P. deGrandpre, and W. E. Feely, J.Vac. Sci. Technol., B6, 379(1988).
• 5). (a)S. Uchino, T. Ueno, S. Migitaka,J. Yamamoto, T.Tanaka, F. Murai,H. Shiraishi, and M.Hashimoto, Proc. SHE 2724, 438(1996).(b)F. Murai, J. Yamamoto, H. Yamaguchi,Okazaki, K. Sato, K. Hasegawa, and H.Hayakawa, J. Vac. Sci. Technol., B12(6),Nov/Dec, 3874(1994).

タイトルに関連する用語 (9件)： フェニルカルビノール ,  酸 ,  触媒 ,  脱水反応 ,  異方性 ,  拡散 ,  ネガ ,  EB ,  レジスト材料