文献
J-GLOBAL ID：200902167541767057 整理番号：99A0519962
今後の半導体動向とリソグラフィー技術
Prospects of semiconductor technology and lithography.
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著者 (1件)：
笹子勝
笹子勝 について
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(
松下電子工業
)
松下電子工業 について
名寄せID(JGON) 202151000166227813 ですべてを検索
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資料名：
応用物理 (JSAP International)
応用物理 について
JST資料番号 F0252A ですべてを検索
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巻：
68
号：
5
ページ：
520-526
発行年：
1999年05月10日
JST資料番号：
F0252A
ISSN：
0369-8009
CODEN：
OYBSA
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
解説
発行国：
日本 (JPN)
言語：
日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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永く光リソグラフィー技術により,営々と進展してきた半導体産業...
シソーラス用語：
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*リソグラフィー
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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般
(NC03030V)
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引用文献 (40件)：
CHIN, D. IEDM Tech.Dig. 1998, 3
DAVARI, B. IEDM Tech.Dig. 1996, 558
半導体産業研究所96年度報告書. 1996
BROWN, K. SPIE. 1995, 1264, 2
石谷明彦. 機械振興. 1997, 30, 24
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タイトルに関連する用語 (2件)：
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