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J-GLOBAL ID：200902168134075490   整理番号：96A0682833

オプトエレクトロニクス用のシリコンベースのIV族ヘテロ構造

Silicon-based group IV heterostructures for optoelectronic applications.
著者 (1件)：
SOREF R A

SOREF R A について

(USAF Rome Lab., Massachusetts)

USAF Rome Lab., Massachusetts について


資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)

Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films について


巻： 14  号： 3 Pt 1  ページ： 913-918  発行年： 1996年05月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
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ヘテロ構造フォトニクスの開発に向けての五つの最新の話題を概説...
シソーラス用語：
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ケイ素

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禁止帯 について

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分類 (2件)：
分類
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13-15族化合物を含まない半導体-半導体接合 
(BM03083P)

13-15族化合物を含まない半導体-半導体接合 について

,  半導体レーザ 
(BD04070L)

半導体レーザ について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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シリコン

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, 
ヘテロ構造

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