文献
J-GLOBAL ID:200902168236360237
整理番号:94A0195654
SIMOX基板形成後におけるボロンの濃度分布 (2)
Boron distribution after forming SIMOX wafers. (2).
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{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0195654&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0055A") }}