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J-GLOBAL ID：200902168665511766   整理番号：97A0899854

表面差分反射率によるSi(111)7×7上のHの吸着速度論

Adsorption kinetics of H on Si(111)7×7 by means of surface differential reflectivity.
著者 (4件)：
BEITIA C

BEITIA C について

(Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA)

Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA について

, 
PREYSS W

PREYSS W について

(Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA)

Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA について

, 
DEL SOLE R

DEL SOLE R について

(II Univ. Roma Tor Vergata, Rome, ITA)

II Univ. Roma Tor Vergata, Rome, ITA について

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BORENSZTEIN Y

BORENSZTEIN Y について

(Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA)

Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA について


資料名：
Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics  (Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics)

Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics について


巻： 56  号： 8  ページ： R4371-R4374  発行年： 1997年08月15日 
JST資料番号： D0746A  ISSN： 1098-0121  CODEN： PRBMDO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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Si(111)7×7上のHの吸着速度論を,実時間表面差分反射...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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ケイ素

ケイ素 について

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分類 (1件)：
分類
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物理的手法を用いた吸着の研究 
(CB12043P)

物理的手法を用いた吸着の研究 について

タイトルに関連する用語 (4件)：
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差分

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反射率

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Si

Si について

, 
吸着速度

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