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J-GLOBAL ID：200902168671190734   整理番号：01A0652526

超低誘電率多孔質SOG膜 ISM1.5

Porous SOG Films for Ultra Low-k Application.
著者 (1件)：
村上裕彦

村上裕彦 について

(日本真空技術)

日本真空技術 について


資料名：
半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集  (Proceedings of the Symposium on Semiconductors and Integrated Circuits Technology)

半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集 について


巻： 60th  ページ： 53-58  発行年： 2001年06月06日 
JST資料番号： F0108B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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半導体デバイスのスケーリングにより,最小加工線巾がディープサ...
シソーラス用語：
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*誘電体薄膜

誘電体薄膜 について

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CMP【研磨】

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分類 (1件)：
分類
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半導体集積回路 
(NC03162T)

半導体集積回路 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
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多孔質

多孔質 について

, 
SOG

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