Si(100)上のLa2O3/SiO2層の構造と安定性

STEMMER S; MARIA J-P; KINGON A I

文献

J-GLOBAL ID：200902168859642322 整理番号：01A0762497

Si(100)上のLa₂O₃/SiO₂層の構造と安定性

Structure and stability of La₂O₃/SiO₂ layers on Si(001).

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資料名：
巻： 79 号： 1 ページ： 102-104 発行年： 2001年07月02日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Si上の熱酸化SiO2上にLa<sub...

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酸化物薄膜

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