Evaluation of chemically amplified resist based on adamantyl methacrylate for 193nm lithography.

文献

J-GLOBAL ID：200902168999595987 整理番号：95A0854455

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巻： 2438 ページ： 422-432 発行年： 1995年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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