ゲート酸化物の完全性におよぼす銅の影響

LIN Y H; WU Y H; CHIN A; PAN F M

文献

J-GLOBAL ID：200902170071419511 整理番号：00A1031986

ゲート酸化物の完全性におよぼす銅の影響

The Effect of Copper on Gate Oxide Integrity.

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巻： 147 号： 11 ページ： 4305-4306 発行年： 2000年11月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

フロント-エンドMOS製作後にゲート酸化物の完全性に対するC...

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固体デバイス製造技術一般

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