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J-GLOBAL ID：200902170355702230   整理番号：96A0396098

無電解Ni-Pめっき膜のノジュールの発生要因

Origins of Nodules in Electroless Nickel-Phosphorus Deposition.

著者 (5件)： 田代雄彦 (メルテックス) ,  千葉国雄 (メルテックス) ,  福田豊 (メルテックス) ,  中尾英弘 (メルテックス) ,  渡辺徹 (東京都大 工)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 47  号： 4  ページ： 349-355  発行年： 1996年04月 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 前処理とめっき条件がノジュールの生成に影響することが分かった...

シソーラス用語： 無電解めっき ,...
準シソーラス用語： ヒドロキシカルボン酸

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分類 (1件)： 無電解めっき  (WC08024S)

引用文献 (16件)：

• MORTON, Antler. Plat. Surf. Finish. 1977, 64, 44
• 中山郁雄. 表面技術. 1991, 42, 303
• HOFMANN, U. DECHEMA Monogr. 1990, 121, 257
• 中岸豊. 鍍金の世界. 1993, 4, 54
• 東京鍍金材料協同組合. めっき技術ガイドブック. 1987, 386

タイトルに関連する用語 (4件)： 電解 ,  Ni-Pめっき ,  ノジュール ,  発生要因