文献

J-GLOBAL ID：200902170595940570   整理番号：00A0912491

化学蒸着によって作製した非晶質炭素のフィブリル形状ナノ材料

Amorphous Carbon Fibrilliform Nanomaterials Prepared by Chemical Vapor Deposition.

著者 (7件)： TAKIKAWA H (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  YATSUKI M (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  MIYANO R (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  NAGAYAMA M (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  SAKAKIBARA T (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  ITOH S (Futaba Corp., Chiba, JPN) ,  ANDO Y (Meijyo Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39  号： 9A  ページ： 5177-5179  発行年： 2000年09月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学蒸着と高温フィラメント化学蒸着で炭素ナノ材料を作製した。...

シソーラス用語： *フィブリル構造 ,...
準シソーラス用語： ホットフィラメント

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0912491&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (19件)：

• 1) L. C. Qin and S. Iijima: Mater. Lett. 30 (1997) 311.
• 2) L. F. Sun, J. M. Mao, Z. W. Pan, B. H. Chang, W. Y. Zhou, G. Wang, L. X. Qian and S. S. Xie: Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 644.
• 3) S. L. Sung, S. H. Tsai, C. H. Tseng, F. K. Chiang, X. W. Liu and H. C. Shih: Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 197.
• 4) S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell and H. Dai: Science 283 (1999) 512.
• 5) D. Golberg, Y. Bando, K. Kurashima and T. Sasaki: Appl. Phys. Lett. 72 (1998) 2108.

タイトルに関連する用語 (5件)： 化学蒸着 ,  作製 ,  非晶質炭素 ,  フィブリル ,  ナノ材料