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J-GLOBAL ID：200902171078094096   整理番号：00A0797659

制御ラジカル重合法による半導体性ジブロック共重合体の合成

Semiconducting Diblock Copolymers Synthesized by Means of Controlled Radical Polymerization Techniques.

著者 (5件)： STALMACH U (Univ. Groningen, Groningen, NLD) ,  DE BOER B (Univ. Groningen, Groningen, NLD) ,  VIDELOT C (Univ. Groningen, Groningen, NLD) ,  VAN HUTTEN P F (Univ. Groningen, Groningen, NLD) ,  HADZIIOANNOU G (Univ. Groningen, Groningen, NLD)
資料名： Journal of the American Chemical Society  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 122  号： 23  ページ： 5464-5472  発行年： 2000年06月14日 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(p-フェニレンビニレン)-C₆₀...

シソーラス用語： *ジブロック共重合体 ,...
準シソーラス用語： ポリジオクチルオキシフェニレンビニレン

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分類 (1件)： 共重合  (CG04030D)

物質索引 (4件)： スチレン ,  4-(クロロメチル)スチレン ,  [2-フェニル-2-(2,2,6,6-テトラメチルピペリジノオキシ)エチル]マグネシウムブロミド ,  2,5-ビス(オクチルオキシ)-4-メチルベンズアルデヒド

タイトルに関連する用語 (2件)： 制御ラジカル重合 ,  ジブロック共重合体