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J-GLOBAL ID：200902171428308442   整理番号：93A0648617

マグネトロン反応性スパッタ法により製作されたWO₃薄膜の性質

The properties of magnetron-reactive sputtered tungsten Oxide films.

著者 (3件)： 中原直和 (東亜大 工) ,  杉本邦彦 (東亜大 工) ,  宮田直之 (東亜大 工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 40th  号： Pt 2  ページ： 423  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： マグネトロン ,  反応性スパッタ法 ,  製作 ,  薄膜 ,  性質