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J-GLOBAL ID：200902171773877328   整理番号：01A0016412

ガスフロースパッタ法とグラニュラー磁性体の合成

Gas-Flow-Sputtering Method and Production of Magnetic Granular Materials.
著者 (1件)：
石井清

石井清 について

(宇都宮大 工)

宇都宮大 工 について


資料名：
日本応用磁気学会誌  (Journal of the Magnetics Society of Japan)

日本応用磁気学会誌 について


巻： 24  号： 11  ページ： 1343-1348  発行年： 2000年11月01日 
JST資料番号： Z0944A  ISSN： 0285-0192  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標記スパッタ法は,1Torr付近の高圧力下において,パイプ,...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*スパッタリング

スパッタリング について

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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ガスフロースパッタリング

ガスフロースパッタリング について

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分類 (3件)：
分類
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薄膜成長技術・装置 
(BK14020I)

薄膜成長技術・装置 について

,  金属薄膜 
(BK14030T)

金属薄膜 について

,  磁性材料 
(NA04040H)

磁性材料 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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ガスフロー

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, 
スパッタ法

スパッタ法 について

, 
磁性体

磁性体 について


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