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J-GLOBAL ID：200902172625467923   整理番号：00A0086125

a-Si:H膜蒸着に用いるシランプラズマ中の原子状水素温度

Atomic hydrogen temperature in silane plasmas used for the deposition of a-Si:H films.
著者 (6件)：
MIYAZAKI K

MIYAZAKI K について

(Kurume National Coll. Technol., Fukuoka, JPN)

Kurume National Coll. Technol., Fukuoka, JPN について

, 
KAJIWARA T

KAJIWARA T について

(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)

Kyushu Univ., Fukuoka, JPN について

, 
UCHINO K

UCHINO K について

(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)

Kyushu Univ., Fukuoka, JPN について

, 
MURAOKA K

MURAOKA K について

(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)

Kyushu Univ., Fukuoka, JPN について

, 
OKADA T

OKADA T について

(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)

Kyushu Univ., Fukuoka, JPN について

, 
MAEDA M

MAEDA M について

(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)

Kyushu Univ., Fukuoka, JPN について


資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)

Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films について


巻： 17  号： 6  ページ： 3197-3201  発行年： 1999年11月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標記プラズマ中の原子状水素の温度を二光子レーザ誘起蛍光法で測...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*ケイ素

ケイ素 について

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分類 (1件)：
分類
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半導体薄膜 
(BK14040E)

半導体薄膜 について

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Si

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, 
蒸着

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シラン

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プラズマ

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, 
原子状水素

原子状水素 について


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