痕跡量金属イオンの分析におけるキレート高分子とその応用

文献

J-GLOBAL ID：200902172976407226 整理番号：99A0370486

Chelating Resins and Their Applications in the Analysis of Trace Metal Ions.

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巻： 61 号： 2 ページ： 94-114 発行年： 1999年02月
JST資料番号： D0072A ISSN： 0026-265X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

過去25年間におけるキレート高分子を用いた簡単で高感度であり...

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高分子固体のその他の性質 , 各種物理的手法

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