シリコン上の結晶性酸化物 最初の5単層

MCKEE R A; WALKER F J; CHISHOLM M F

文献

J-GLOBAL ID：200902173702253024 整理番号：98A0940319

シリコン上の結晶性酸化物最初の5単層

Crystalline Oxides on Silicon: The First Five Monolayers.

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巻： 81 号： 14 ページ： 3014-3017 発行年： 1998年10月05日
JST資料番号： H0070A ISSN： 0031-9007 CODEN： PRLTAO 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

シリコンとコメンシュレートな結晶性酸化物界面を成長させる問題...

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酸化物薄膜

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シリコン上の結晶性酸化物 最初の5単層

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