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J-GLOBAL ID：200902173884290922   整理番号：94A0017172

HCD方式イオンプレーティング法によるチタン窒化物皮膜の膜質におよぼす酸素添加の影響

Effects of oxygen addition on quality of titanium nitride film formed by HCD ion plating.

著者 (5件)： 石神逸男 (大阪府産業技総研) ,  三浦健一 (大阪府産業技総研) ,  久野正人 (大阪府産業技総研) ,  金田博之 (大阪府産業技総研) ,  浦谷文博 (大阪府産業技総研)
資料名： 日本熱処理技術協会講演大会講演概要集
巻： 37th  ページ： 53-54  発行年： 1993年11月 
JST資料番号： S0604B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 基板材料にSKH51を用い,雰囲気中に添加した酸素の膜質に及...

シソーラス用語： ホロー陰極放電 ,...
準シソーラス用語： 窒化チタン

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分類 (1件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオンプレーティング法 ,  チタン窒化物 ,  皮膜 ,  膜質 ,  酸素添加