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J-GLOBAL ID：200902174281637371   整理番号：00A0741992

電気場が非晶質シリコン薄膜の金属誘導側面結晶化(MILC)に及ぼす影響

Effect of Electric Field on Metal-Induced Lateral Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films.

著者 (3件)： KIM C-H (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  LEE B-I (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  JOO S-K (Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of the Korean Institute of Metals and Materials  (Journal of the Korean Institute of Metals and Materials)
巻： 38  号： 3  ページ： 500-503  発行年： 2000年03月04日 
JST資料番号： A0698B  ISSN： 1738-8228  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 韓国 (KOR)  言語： 韓国語 (KO)

抄録/ポイント： Niを非晶質Si薄膜上に部分的に形成し,Ptで電極を形成後,...

シソーラス用語： *薄膜トランジスタ ,...
準シソーラス用語： MILC

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分類 (1件)： トランジスタ  (NC03070N)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電気場 ,  非晶質 ,  シリコン薄膜 ,  誘導 ,  結晶化 ,  MILC