テトラメトキシシランを使った非晶質SiO<sub>2</sub>の光誘起合成

AWAZU K; ONUKI H

文献

J-GLOBAL ID：200902174842170168 整理番号：96A0690745

テトラメトキシシランを使った非晶質SiO₂の光誘起合成

Photoinduced synthesis of amorphous SiO₂ with tetramethoxysilane.

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巻： 69 号： 4 ページ： 482-484 発行年： 1996年07月22日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

室温でテトラメトキシシラン(TMOS)を使った標記合成法を述...

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酸化物薄膜 , 光化学反応

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テトラメトキシシランを使った非晶質SiO2の光誘起合成

テトラメトキシシランを使った非晶質SiO₂の光誘起合成