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J-GLOBAL ID：200902175354579371   整理番号：98A0852204

シリコンの熱安定性 193nmリソグラフィー用のメタクリル樹脂系二層レジストの含有

Thermal Stability of Silicon-Containing Methacrylate Based Bilayer Resist for 193nm Lithography.

著者 (4件)： WHITE D (Olin Microelectronic Materials, RI) ,  BEAUCHEMIN B T JR (Olin Microelectronic Materials, RI) ,  BLAKENEY A J (Olin Microelectronic Materials, RI) ,  STEINHAEUSLER T (Olin Microelectronic Materials, RI)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3333  号： Pt.1  ページ： 132-143  発行年： 1998年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリコン ,  熱安定性 ,  リソグラフィー ,  メタクリル樹脂 ,  レジスト