文献
J-GLOBAL ID:200902175954728346 整理番号:94A0108961
洗浄・アッシング技術 洗浄装置 Uwstation 東京エレクトロン
Cleaning, ashing technology.Cleaning device.Uwstation.Tokyo Electron.
出版者サイト
複写サービスで全文入手
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0108961&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0509A") }}
資料名:
月刊Semiconductor World (月刊セミコンダクターワールド)
月刊Semiconductor World について
JST資料番号 Y0509A ですべてを検索
ISSN,ISBN,CODENですべてを検索
資料情報を見る
巻:
12
号:
16
ページ:
208-209
発行年:
1993年11月
JST資料番号:
Y0509A
ISSN:
0286-5025
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
紹介的記事
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
キャリヤレス方式の洗浄装置としてTEL-WETを販売してきた...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
洗浄装置
洗浄装置 について
「洗浄装置」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る
,...
続きはJDreamIII(有料)にて
{{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0108961&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0509A") }}
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般
(NC03030V)
固体デバイス製造技術一般 について
分類コード NC03030V で文献を検索
分類コード4桁 NC03 で文献を検索
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
洗浄
洗浄 について
「洗浄」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る
,
アッシング
アッシング について
「アッシング」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る
,
洗浄装置
洗浄装置 について
「洗浄装置」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る
前のページに戻る
TOP
BOTTOM