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J-GLOBAL ID：200902176092205757   整理番号：97A0008101

コヒーレントな多数プラズモンの発生と緩和

Generation and Relaxation of Coherent Majority Plasmons.

著者 (5件)： CHO G C (Rheinisch-Westfaelische Technische Hochsch. Aachen, Aachen, DEU) ,  DEKORSY T (Rheinisch-Westfaelische Technische Hochsch. Aachen, Aachen, DEU) ,  BAKKER H J (Rheinisch-Westfaelische Technische Hochsch. Aachen, Aachen, DEU) ,  HOEVEL R (Rheinisch-Westfaelische Technische Hochsch. Aachen, Aachen, DEU) ,  KURZ H (Rheinisch-Westfaelische Technische Hochsch. Aachen, Aachen, DEU)
資料名： Physical Review Letters  (Physical Review Letters)
巻： 77  号： 19  ページ： 4062-4065  発行年： 1996年11月04日 
JST資料番号： H0070A  ISSN： 0031-9007  CODEN： PRLTAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 様々なドーピングレベルのn型ドープGaAsにおけるコヒーレン...

シソーラス用語： ヒ化ガリウム ,...

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分類 (1件)： 固体プラズマ  (BM02160W)

タイトルに関連する用語 (3件)： コヒーレント ,  プラズモン ,  緩和