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J-GLOBAL ID：200902176482308050   整理番号：02A0512514

分子線エピタキシー法を用いた新銅酸化物超伝導体の合成 バルク合成を超える

Synthesis of new superconducting cuprates by molecular beam epitaxy-Beyond bulk synthesis.

著者 (3件)： 内藤方夫 (NTT 物性科学基礎研) ,  狩元慎一 (NTT 物性科学基礎研) ,  山本秀樹 (NTT 物性科学基礎研)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 71  号： 5  ページ： 536-542  発行年： 2002年05月10日 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： より高い臨界温度をもつ新超伝導体の探索は,超伝導研究の中で最...

シソーラス用語： *MBE成長 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (36件)：

• 1) 例えば,R. J. Cava: J. Am. Ceram. Soc. 83, 5 (2000),
• 2) M. Naito and H. Sato: Appl. Phys. Lett. 67, 2557 (1995).
• 3) 佐藤寿志,内藤方夫,山本秀樹,束田昭雄,松田 梓:表面科学 21, 340 (2000) とその参考文献.
• 4) M. Naito, H. Sato and H. Yamamoto: Proc. SPIE 3481, San Diego, 1998, p. 214.
• 5) I. Tsukada and K. Uchinokura: Jpn. J. Appl. Phys. 30, L1114 (1991).

タイトルに関連する用語 (3件)： 分子線エピタキシー法 ,  銅酸化物超伝導体 ,  バルク