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J-GLOBAL ID：200902176785749475   整理番号：97A0037458

酸化Niターゲットを直接イオンビームスパッタして作製したNiO交換結合バイアス層

NiO Exchange Bias Layers Grown by Direct Ion Beam Sputtering of a Nickel Oxide Target.

著者 (4件)： MICHEL R P (Lawrence Livermore National Lab., CA) ,  CHAIKEN A (Lawrence Livermore National Lab., CA) ,  KIM Y K (Quantum Peripherals Colorado Inc., CO) ,  JOHNSON L E (Lawrence Livermore National Lab., CA)
資料名： IEEE Transactions on Magnetics  (IEEE Transactions on Magnetics)
巻： 32  号： 5 Pt 2  ページ： 4651-4653  発行年： 1996年09月 
JST資料番号： A0339B  ISSN： 0018-9464  CODEN： IEMGAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化Niをターゲットとして成膜すると,真空を破らずにスピンバ...

シソーラス用語： 酸化ニッケル ,...
準シソーラス用語： 層間結合 ,...

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分類 (1件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (7件)： 酸化 ,  Ni ,  ターゲット ,  イオンビームスパッタ ,  作製 ,  NiO ,  交換結合