On the nature of zero temperature coefficient of resistance of RuO<sub>2</sub> thin film resistor formation using in situ annealing.

JIA Q X; JIAO K L; ANDERSON W A; COLLINS F M

文献

J-GLOBAL ID：200902176843149211 整理番号：93A0761630

On the nature of zero temperature coefficient of resistance of RuO₂ thin film resistor formation using in situ annealing.

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巻： 11 号： 4 Pt 1 ページ： 1052-1055 発行年： 1993年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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On the nature of zero temperature coefficient of resistance of RuO2 thin film resistor formation using in situ annealing.

On the nature of zero temperature coefficient of resistance of RuO₂ thin film resistor formation using in situ annealing.