文献
J-GLOBAL ID：200902177458204429   整理番号：93A0850816

The Modification of Ni, Pb and LB Films on the Behavior of n-Si Photoelectrode.

  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=93A0850816&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0391B") }}
著者 (6件)：
DENG X-N

DENG X-N について

(Shanghai Univ. Science and Technology, Shanghai)

Shanghai Univ. Science and Technology, Shanghai について

, 
YIN J-H

YIN J-H について

(Shanghai Univ. Science and Technology, Shanghai)

Shanghai Univ. Science and Technology, Shanghai について

, 
FAN Q-B

FAN Q-B について

(Shanghai Univ. Science and Technology, Shanghai)

Shanghai Univ. Science and Technology, Shanghai について

, 
SHEN Z-D

SHEN Z-D について

(Shanghai Univ. Science and Technology, Shanghai)

Shanghai Univ. Science and Technology, Shanghai について

, 
LIANG P-H

LIANG P-H について

(Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Academia Sinica, Shanghai)

Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Academia Sinica, Shanghai について

, 
ZHANG W-Q

ZHANG W-Q について

(Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Academia Sinica, Shanghai)

Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Academia Sinica, Shanghai について


資料名：
Huaxue Xuebao  (Huaxue Xuebao)

Huaxue Xuebao について


巻： 51  号： 5  ページ： 432-437  発行年： 1993年05月 
JST資料番号： H0391B  ISSN： 0567-7351  CODEN： HHHPA4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)
タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
Ni

Ni について

, 
Pb

Pb について

, 
Si

Si について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM