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J-GLOBAL ID：200902177727167721   整理番号：94A0180085

ECRプラズマCVD a-Siの低温熱処理に伴う構造変化

Structural Changes in ECR Plasma CVD a-Si during Low-temperature Annealing.
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著者 (4件)：
広山雄一

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(九大 工)

九大 工 について

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本岡輝昭

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(九大 工)

九大 工 について

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平野善之

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(NHK)

NHK について

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佐藤史郎

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(NHK)

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資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 54th  号： 2  ページ： 808  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
タイトルに関連する用語 (4件)：
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ECRプラズマ

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CVD

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Si

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低温熱処理

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