文献
J-GLOBAL ID：200902177736297115   整理番号：94A0079006

Piezoelectric effect on plasma chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon films.

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著者 (3件)：
KAWASAKI M

KAWASAKI M について

(Tokyo Inst. of Technology, Yokohama, JPN)

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SUMIYA M

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(Tokyo Inst. of Technology, Yokohama, JPN)

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KOINUMA H

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(Tokyo Inst. of Technology, Yokohama, JPN)

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資料名：
Amorphous Silicon Technology - 1993  (Amorphous Silicon Technology - 1993)

Amorphous Silicon Technology - 1993 について


ページ： 139-144  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19930659  ISBN： 1-55899-193-X  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

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