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J-GLOBAL ID：200902177810415532   整理番号：99A0169322

レーザーアブレーション法によるβ-FeSi2薄膜作成の試み

Fabrication of β-FeSi2 thin Films by Pulsed Laser Deposition.
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著者 (3件)：
永元達也

永元達也 について

(九大 大学院)

九大 大学院 について

, 
吉武剛

吉武剛 について

(九大 大学院)

九大 大学院 について

, 
永山邦仁

永山邦仁 について

(九大 工)

九大 工 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 59th  号： 3  ページ： 1139  発行年： 1998年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
タイトルに関連する用語 (3件)：
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レーザーアブレーション法

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薄膜

薄膜 について

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試み

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