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J-GLOBAL ID：200902177876873647   整理番号：93A0610390

MOVPE成長InPにおけるFeドーピングの基板面方位依存性 (2): 飽和濃度

Substrate Orientation Dependence of Fe-doping in MOVPE-grown InP. (2): Saturation Concentration.

著者 (2件)： 竹内辰也 (富士通 厚木研) ,  山崎進 (富士通 厚木研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 40th  号： Pt 1  ページ： 325  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (8件)： MOVPE ,  成長 ,  InP ,  Fe ,  ドーピング ,  基板面 ,  方位依存性 ,  飽和