文献

J-GLOBAL ID：200902178251423879   整理番号：01A0645377

プラズマ支援有機金属化学気相成長法により成長させた窒素ドープZnO膜

Nitrogen doped ZnO film grown by the plasma-assisted metal-organic chemical vapor deposition.

著者 (8件)： WANG X (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  YANG S (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  WANG J (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  LI M (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  JIANG X (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  DU G (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  LIU X (Northwestern Univ., Il., USA) ,  CHANG R P H (Northwestern Univ., Il., USA)
資料名： Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)
巻： 226  号： 1  ページ： 123-129  発行年： 2001年06月 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマ支援有機金属化学気相成長(MOCVD)により,窒素ド...

シソーラス用語： *MOCVD ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=01A0645377&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0942A") }}

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ ,  支援 ,  有機金属化学気相成長法 ,  成長 ,  窒素ドープ ,  ZnO