文献
J-GLOBAL ID：200902178335782181   整理番号：93A0528112

Sputter deposition of multicomponent targets: what parts of the process affect the elemental composition of the film.

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著者 (1件)：
THEIRICH D

THEIRICH D について

(Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU)

Univ. Wuppertal, Wuppertal, DEU について


資料名：
NATO ASI Series. E. Applied Sciences  (NATO ASI Series. E. Applied Sciences)

NATO ASI Series. E. Applied Sciences について


巻： 234  ページ： 129-134  発行年： 1993年 
JST資料番号： C0593B  資料種別： 会議録 (C)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

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