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J-GLOBAL ID:200902179335390123   整理番号:02A0170169

アルゴンプラズマ中での中性ループ放電エッチング装置の二次元モデリングおよび最適化

Two-dimensional modeling and optimization of a neutral loop discharge etcher in an argon plasma.
著者 (5件):
資料名:
巻: 149  号: 2/3  ページ: 185-191  発行年: 2002年01月15日 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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磁気中性ループ放電(NLD)でのプラズマ生成の最適条件を求め...
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
プラズマ応用  ,  固体デバイス製造技術一般 

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