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J-GLOBAL ID：200902179335390123   整理番号：02A0170169

アルゴンプラズマ中での中性ループ放電エッチング装置の二次元モデリングおよび最適化

Two-dimensional modeling and optimization of a neutral loop discharge etcher in an argon plasma.

著者 (5件)： OKRAKU-YIRENKYI Y (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  SUNG Y-M (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  OTSUBO M (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  HONDA C (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  SAKODA T (Sojo Univ., Kumamoto, JPN)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 149  号： 2/3  ページ： 185-191  発行年： 2002年01月15日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 磁気中性ループ放電(NLD)でのプラズマ生成の最適条件を求め...

シソーラス用語： *プラズマ生成 ,...
準シソーラス用語： 磁気中性ループプラズマ

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分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： アルゴン ,  プラズマ ,  中性 ,  ループ ,  放電 ,  エッチング装置 ,  モデリング ,  最適化