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J-GLOBAL ID：200902179976222158   整理番号：03A0023850

高分解能放射光を用いたその場光電子分光法でみるSi(001)表面の酸化反応ダイナミクス

In situ photoemission spectroscopy for chemical reaction dynamics study of Si(001) oxidation by using high-energy-resolution synchrotron radiation.

著者 (2件)： 寺岡有殿 (原研 放射光科研セ) ,  吉越章隆 (原研 放射光科研セ)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 71  号： 12  ページ： 1523-1527  発行年： 2002年12月10日 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 表面化学反応機構の研究にとって,入射分子の並進運動エネルギー...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...
準シソーラス用語： 放射光

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分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

引用文献 (39件)：

• ENGEL, T. Surf. Sci. Rep. 1993, 18, 91
• TAKAKUWA, Y. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 2001, 114-116, 401
• 宇田毅. 応用物理. 1997, 66, 1199
• 宇田毅. 表面科学. 1998, 19, 173
• KATO, K. Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 2000

タイトルに関連する用語 (6件)： 高分解能 ,  放射光 ,  光電子分光法 ,  Si ,  酸化 ,  反応ダイナミクス