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J-GLOBAL ID：200902180122525619   整理番号：98A0044530

熱酸化直後のSiO₂/Si界面特性の評価

Evaluation of SiO2/Si interface characteristics just after thermal oxidation.

著者 (6件)： 角田武 (東京エレクトロン) ,  長谷川雅之 (東京エレクトロン東北) ,  佐藤弘 (東京エレクトロン東北) ,  今井正幸 (東京エレクトロン東北) ,  神力博 (東京エレクトロン) ,  太田与洋 (東京エレクトロン)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 58th  号： 2  ページ： 804  発行年： 1997年10月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： 熱酸化 ,  SiO2 ,  Si ,  界面特性 ,  評価