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J-GLOBAL ID：200902180247587438   整理番号：99A0095590

多孔質シリコン膜における非常に大きな連続レーザ光誘起光吸収 加熱効果

Very large continuous-wave-laser-induced optical absorption in porous silicon films: Evidence for thermal effects.

著者 (2件)： KOYAMA H (Univ. Rochester, New York) ,  FAUCHET P M (Univ. Rochester, New York)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 73  号： 22  ページ： 3259-3261  発行年： 1998年11月30日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 陽極酸化後に800~950°Cで熱酸化した多孔質けい素(PSi...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...
準シソーラス用語： 禁止帯

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分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (6件)： 多孔質 ,  シリコン膜 ,  連続レーザ ,  光誘起 ,  光吸収 ,  加熱効果