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J-GLOBAL ID：200902180292891997   整理番号：00A0703958

薄膜における固層反応と表面解析に関する研究

著者 (4件)： シーグフリード ホフマン (金材技研) ,  吉原一紘 (金材技研) ,  MIN K (金材技研) ,  RAR A (金材技研)
資料名： 文部科学省金属材料技術研究所研究報告集  (科学技術庁金属材料技術研究所研究報告集)
巻： 22  ページ： 127-131  発行年： 2000年03月31日 
JST資料番号： G0092B  ISSN： 0285-7030  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体等の微細構造の分析ではナノメータレベルでの深さ方向分解...

シソーラス用語： *Auger分光法 ,...
準シソーラス用語： 深さ解析

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分類 (1件)： 半導体の表面構造  (BK15030A)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  解析 ,  研究