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J-GLOBAL ID：200902180384124623   整理番号：98A0464489

誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法を用いた極薄アルミナ膜の作製

Fabrication of ultra-thin alumina film using an inductive coupling rf plasma enhancement magnetron sputtering technique.

著者 (4件)： 森田正 (日本真空技術) ,  山本直志 (日本真空技術) ,  倉内利春 (日本真空技術) ,  松浦正道 (日本真空技術)
資料名： 真空に関する連合講演会講演予稿集
巻： 38th  ページ： 86-87  発行年： 1997年 
JST資料番号： L1308A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (7件)： 誘導結合 ,  RFプラズマ ,  支援 ,  マグネトロンスパッタ法 ,  極 ,  アルミナ膜 ,  作製