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J-GLOBAL ID：200902180586193406   整理番号：98A0212269

光屈折複合材料のホスト重合体のためのテトラフェニルジアミノビフェニル基を持つ重合体の合成

Synthesis of Polymers Having Tetraphenyldiaminobiphenyl Units for a Host Polymer of Photorefractive Composite.

著者 (7件)： OGINO K (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  NOMURA T (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  SHICHI T (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  PARK S-H (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  SATO H (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  AOYAMA T (Inst. Physical and Chemical Res., Saitama, JPN) ,  WADA T (Inst. Physical and Chemical Res., Saitama, JPN)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 9  号： 12  ページ： 2768-2775  発行年： 1997年12月 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： テトラフェニルジアミノビフェニル(TPD)基を持つアクリル酸...

シソーラス用語： 光屈折 ,...
準シソーラス用語： スチレン誘導体 ,...

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分類 (2件)： 重合反応一般  (CG04010H) ,  非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (3件)： 光屈折 ,  複合材料 ,  重合体