文献

J-GLOBAL ID：200902181924927182   整理番号：97A0400575

SF₆クラスタイオンビームによる反応性スパッタリング

Reactive sputtering by SF₆ cluster ion beams.

著者 (4件)： TOYODA N (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KITANI H (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MATSUO J (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  YAMADA I (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 121  号： 1/4  ページ： 484-488  発行年： 1997年01月 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Lavalノズルを通したSF₆とHeの...

シソーラス用語： イオンビームスパッタリング ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0400575&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0899A") }}

分類 (1件)： スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (3件)： SF6 ,  クラスタイオンビーム ,  反応性スパッタリング