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J-GLOBAL ID：200902181946815922   整理番号：01A0214532

レーザー蒸着法による高配向性TiO₂薄膜の作製

Preparation of Highly Oriented TiO₂ Thin Films by Pulsed Laser Deposition.

著者 (5件)： 八巻徹也 (原研 高崎研) ,  住田泰史 (原研 高崎研) ,  山本春也 (原研 高崎研) ,  宮下敦巳 (原研 高崎研) ,  梨山勇 (原研 高崎研)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 78th  号： 1  ページ： 69  発行年： 2000年03月15日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： レーザー蒸着法を用いて,サファイア基板上に高配向性TiO<s...

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タイトルに関連する用語 (5件)： レーザー蒸着 ,  配向性 ,  TiO2 ,  薄膜 ,  作製