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J-GLOBAL ID：200902181955502554   整理番号：99A0795748

157nmレジスト設計のための見通し

Outlook for 157-nm resist design.

著者 (6件)： KUNZ R R (Massachusetts Inst. Technol., MA) ,  BLOOMSTEIN T M (Massachusetts Inst. Technol., MA) ,  HARDY D E (Massachusetts Inst. Technol., MA) ,  GOODMAN R B (Massachusetts Inst. Technol., MA) ,  DOWNS D K (Massachusetts Inst. Technol., MA) ,  CURTIN J E (Massachusetts Inst. Technol., MA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3678  号： Pt.1  ページ： 13-23  発行年： 1999年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (3件)： レジスト ,  設計 ,  見通し