サブミクロンの重合体トレンチの酸素反応性イオンエッチングにおけるマイクロローディングに及ぼすイオン角度分布の効果

JANES J; PILZ W

文献

J-GLOBAL ID：200902182471313044 整理番号：93A0667620

サブミクロンの重合体トレンチの酸素反応性イオンエッチングにおけるマイクロローディングに及ぼすイオン角度分布の効果

Effect of ion angular distributions on microloading in oxygen reactive-ion etching of submicrometer polymer trenches.

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巻： 74 号： 1 ページ： 649-658 発行年： 1993年07月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

13.56MHzプラズマの高エネルギーの反応性イオンO<su...

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プラズマ応用 , 固体デバイス製造技術一般

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