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J-GLOBAL ID：200902184621531056   整理番号：97A0357326

温度応答の液体クロマトグラフィー II N-イソプロピルアクリルアミド共重合体修飾のシリカゲルにおける疎水性基の効果

Temperature-Responsive Liquid Chromatography-2.Effects of Hydrophobic Groups in N-Isopropylacrylamide Copolymer-Modified Silica.

著者 (7件)： KANAZAWA H (Kyoritsu Coll. Pharmacy, Tokyo, JPN) ,  KASHIWASE Y (Kyoritsu Coll. Pharmacy, Tokyo, JPN) ,  YAMAMOTO K (Kyoritsu Coll. Pharmacy, Tokyo, JPN) ,  MATSUSHIMA Y (Kyoritsu Coll. Pharmacy, Tokyo, JPN) ,  KIKUCHI A (Tokyo Women’s Medical Coll., Tokyo, JPN) ,  SAKURAI Y (Tokyo Women’s Medical Coll., Tokyo, JPN) ,  OKANO T (Tokyo Women’s Medical Coll., Tokyo, JPN)
資料名： Analytical Chemistry  (Analytical Chemistry)
巻： 69  号： 5  ページ： 823-830  発行年： 1997年03月01日 
JST資料番号： A0395A  ISSN： 0003-2700  CODEN： ANCHAM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： N-イソプロピルアクリルアミド(IPAA)とメタクリル酸ブチ...

シソーラス用語： 温度依存性 ,...
準シソーラス用語： アクリルアミド ,...

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分類 (1件)： 液体クロマトグラフィー  (CC04014L)

タイトルに関連する用語 (7件)： 温度応答 ,  液体クロマトグラフィー ,  N-イソプロピルアクリルアミド ,  共重合体 ,  修飾 ,  シリカゲル ,  疎水性基